一、核心定義

• 目標純度：5N～9N+（99.999%～99.9999999%）

• 嚴控對象：金屬離子、顆粒、水分、TOC、陰陽離子、硼磷砷等雜質

二、工作原理

• 壓力極低、壓降極小

  無吸附、無溶出

• 全流程超潔凈

三、關鍵結構與技術要點

1. 塔體材質（決定能否做電子級）

• 316L EP / 高純 316L：最主流

• 904L、哈氏合金：強腐蝕體系

• PFA、PTFE、石英：防金屬溶出、強腐蝕工況

• 表面要求：電解拋光 EP，Ra ≤ 0.2～0.5 μm

2. 塔內件

• 高效絲網波紋填料（BX500/CY700 類）

• 專用液體分布器 / 再分布器

• 無滯留區設計

• 低壓降，整塔壓差＜0.5 mbar

3. 制造與裝配

• 潔凈車間：Class 100～1000

• 焊接：軌道自動焊

• 檢漏：氦質譜檢漏，漏率 ≤1×10?? Pa?m3/s

• 清洗：超純水、電子級清洗劑、惰性氣體保護

4. 控制系統

• 溫度精度：±0.1℃

• 壓力精度：±0.01 kPa

• 回流比精密控制

• 可在線聯動：ICP-MS、TOC、水分儀

四、與普通精餾的核心區別

• 純度：ppm → ppb/ppt

• 材質：普通不銹鋼 → 高純不銹鋼 EP / 特種合金 / 非金屬

• 環境：普通車間 → 潔凈室

• 檢測：常規分析 → 痕量雜質在線分析

• 密封：常規密封 → 氦檢級零泄漏